Напыление: как это работает — почему чипы создаются слой за слоем

Как на самом деле создаются тонкие пленки и металлические слои внутри полупроводникового чипа? В этом видео объясняются основные методы осаждения, используемые в производстве полупроводников — от PVD, CVD и ALD до электрохимического осаждения меди. Современные чипы создаются послойно. Некоторые процессы осаждения добавляют всего несколько нанометров материала, в то время как другие должны покрывать сложные трехмерные структуры или полностью заполнять траншеи и переходные отверстия. Сначала мы рассмотрим процесс осаждения в более широком цикле производства полупроводников, а затем перейдем к основным семействам процессов: PVD — Физическое осаждение из паровой фазы: направленное физическое осаждение, используемое для многих тонких металлических, барьерных и затравочных пленок. CVD и PECVD — Химическое осаждение из паровой фазы: газофазная химия поверхности для широкого спектра полупроводниковых пленок. ALD — Осаждение атомных слоев: последовательные, самоограничивающиеся реакции для получения высококонтролируемых и конформных тонких пленок. ECD — Электрохимическое осаждение: осаждение влажным методом, используемое для проводящих материалов, таких как медные межсоединения, включая сверхнаполнение методом «снизу вверх». Мы также рассмотрим разницу между сухими и влажными процессами, почему геометрия важна для покрытия и заполнения пленки, и как материал, толщина, температура и производительность влияют на выбор метода осаждения. Наконец, мы свяжем осаждение с химико-механической полировкой (CMP) — следующим этапом, необходимым для удаления избыточного материала и выравнивания поверхности пластины перед нанесением следующих слоев. Это видео предназначено для наглядного ознакомления со процессом осаждения полупроводниковых материалов для студентов, инженеров и всех, кто интересуется производством современных микросхем. Изучение науки и техники Производство полупроводников объяснено с помощью наглядных визуальных материалов и практического технического контекста. #Полупроводники #ПроизводствоМикросхем #Осаждение #PVD #CVD #ALD #ГальваническоеПокрытие